Enhancing the sensitivity of a high resolution negative-tone metal organic photoresist for extreme ultra violet lithography

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标题	Enhancing the sensitivity of a high resolution negative-tone metal organic photoresist for extreme ultra violet lithography
网址	http://dx.doi.org/10.1117/12.2658324
DOI	10.1117/12.2658324 doi
其它	期刊：Advances in Patterning Materials and Processes XL 作者：Scott M. Lewis; Hayden R. Alty; Michaela Vockenhuber; Guy A. Derose; Dimitrios Kazazis; et al 出版日期：2023-05-01
求助人	樊珩在 2026-08-10 01:18:13 发布自上海，悬赏 20 积分
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