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标题
Reactive ion etching of crystalline silicon using NF3 diluted with H2
相关领域
蚀刻（微加工） 反应离子刻蚀 钝化 硅 分析化学（期刊） 材料科学 图层（电子） 光电子学 化学 纳米技术 色谱法
网址
https://doi.org/10.1116/1.578458
DOI
10.1116/1.578458 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者：A. J. Sidhwa; F. C. Goh; H. A. Naseem; W. D. Brown
出版日期：1993-07-01
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畅快邪欢 在 2026-06-16 10:40:57 发布自广东，悬赏 10 积分
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