Remote plasma etching of silicon nitride and silicon dioxide using NF3/O2 gas mixtures

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标题	Remote plasma etching of silicon nitride and silicon dioxide using NF3/O2 gas mixtures 利用NF3/O2气体混合物远程等离子体刻蚀氮化硅和二氧化硅相关领域化学分析化学（期刊）反应离子刻蚀蚀刻（微加工）氮化硅 X射线光电子能谱二氧化硅四极杆质量分析仪硅体积流量氮化物氧化物质谱法图层（电子）材料科学化学工程环境化学色谱法有机化学工程类冶金物理量子力学
网址	http://dx.doi.org/10.1116/1.581309
DOI	10.1116/1.581309 doi
求助人	飞天小李警在 2025-12-03 11:36:02 发布自上海，悬赏 10 积分
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