The microstructure and mechanical properties of He charged Al films fabricated by HiPIMS/DCMS co-sputtering

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标题	The microstructure and mechanical properties of He charged Al films fabricated by HiPIMS/DCMS co-sputtering 相关领域高功率脉冲磁控溅射材料科学溅射微观结构溅射沉积薄膜复合材料冶金纳米技术
网址	https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2023.112744
DOI	10.1016/j.vacuum.2023.112744 doi
其它	期刊：Vacuum 作者：Yansong Liu; Xing Ai; Jinglin Huang; Tao Wang; Guo Chen; et al 出版日期：2023-11-02
求助人	西因在 2026-01-10 13:56:50 发布自陕西，悬赏 10 积分
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