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标题
WS2-contact resistance reduction to nickel by Al2O3 insertion
相关领域
材料科学 接触电阻 透射电子显微镜 原子层沉积 肖特基势垒 镍 绝缘体（电） 化学气相沉积 半导体 图层（电子） 物理气相沉积 光电子学 复合材料 薄膜 冶金 纳米技术 二极管
网址
https://doi.org/10.35848/1347-4065/ad9d4d
AI链接 iop.orgdoi.org
DOI
10.35848/1347-4065/ad9d4d doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Kaede Teraoka; Shinya Imai; Naoki Matsunaga; Keita Kurohara; Shu Ito; et al
出版日期：2024-12-02
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快看文献 在 2026-01-10 09:41:55 发布自黑龙江，悬赏 10 积分
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