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Controlled growth of high-uniformity 5 μm pitch indium bump arrays through rapid optimization of substrate temperature and deposition rate
通过快速优化衬底温度和沉积速率控制高均匀性5 μ m间距铟凸块阵列的生长
网址
https://doi.org/10.1016/j.sna.2025.117205
DOI
10.1016/j.sna.2025.117205 doi
其它 期刊：Sensors and Actuators A Physical
作者：Pengfei Bao; Xianliang Zhu; An Du; Chunlei Yu; Bo Yang; et al
出版日期：2025-10-26
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Naruto 在 2025-12-06 08:18:39 发布自日本，悬赏 10 积分
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