Novel Dual Liner Process for Side-Shielded Forksheet Device With Superior Design Margin

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标题	Novel Dual Liner Process for Side-Shielded Forksheet Device With Superior Design Margin 具有优越设计余量的侧屏蔽叉片装置的新型双衬里工艺相关领域屏蔽电缆材料科学缩放比例过程（计算）电子工程光电子学电介质计算机科学工程类电气工程几何学数学操作系统
网址	https://doi.org/10.1109/ted.2022.3156957
DOI	10.1109/ted.2022.3156957 doi
其它	期刊：IEEE Transactions on Electron Devices 作者：Munhyeon Kim; Kitae Lee; Sihyun Kim; Jong‐Ho Lee; Byung‐Gook Park; et al 出版日期：2022-03-17
求助人	wangjingli666 在 2025-12-09 20:58:58 发布自黑龙江，悬赏 10 积分
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