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![]() 先进互连中掺RuTaN界面性质的多尺度研究
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期刊:2025 IEEE International Interconnect Technology Conference (IITC) 作者:Minyeong Je; Sunghwan Kim; Geun-Myeong Kim; Ji-Hwan Lee; Seung-Yeol Baek; et al 出版日期:2025 |
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