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 Effect of Heat Treatment on Zirconium Oxide High‐k Gate Dielectric in Silicon‐Based Metal Oxide Semiconductor Capacitors 热处理对硅基金属氧化物半导体电容器中氧化锆高k栅介质的影响
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期刊：physica status solidi (a) 作者：Haotian Cai; Kamale Tuokedaerhan; Zhenchuan Lu; Hongguo Du; Renjia Zhang 出版日期：2023-02-08 |
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