| 标题 |
 Effect of Heat Treatment on Zirconium Oxide High‐k Gate Dielectric in Silicon‐Based Metal Oxide Semiconductor Capacitors 热处理对硅基金属氧化物半导体电容器中氧化锆高k栅介质的影响
相关领域
材料科学
退火（玻璃）
电介质
带隙
X射线光电子能谱
高-κ电介质
薄膜
分析化学（期刊）
立方氧化锆
硅
场发射显微术
扫描电子显微镜
氧化物
复合材料
光电子学
纳米技术
陶瓷
衍射
冶金
化学工程
光学
化学
色谱法
工程类
物理
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：physica status solidi (a) 作者：Haotian Cai; Kamale Tuokedaerhan; Zhenchuan Lu; Hongguo Du; Renjia Zhang 出版日期：2023-02-08 |
| 求助人 |
Danika
在
2025-08-19 07:24:22 发布，悬赏 10 积分
|
| 下载 | 暂无链接，等待应助者上传 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
粗心的秋灵
PDF的下载单位、IP信息已删除
不配.
梁三柏
Zoo
CR7
猪猪hero
MMMMM
飲啖茶食個包
YSM
虚拟的鼠标
HZQ
暮霭沉沉
Joy
eric888
柚子
iNk
COSMAO
七月流火
夜白
不想干活
糟糕的万恶
皖公网安备34019202002308
