| 标题 |
 Demonstration of Large MW and Prominent Endurance in a Hf0.5Zr0.5O2 FeFET with IGZO Channel Utilizing Postdeposition Annealing 利用沉积后退火在具有IGZO沟道的Hf0.5Zr 0.5 O2 FeFET中证明大MW和突出的耐久性
相关领域
退火（玻璃）
材料科学
光电子学
电气工程
砷化镓
硅
频道（广播）
工程物理
电子工程
工程类
冶金
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：IEEE Electron Device Letters 作者：Xu Pan; Pengfei Jiang; Yang Yang; Tiancheng Gong; Wei Wei; et al 出版日期：2024-01-01 |
| 求助人 |
活着
在
2025-08-24 21:18:04 发布，悬赏 10 积分
|
| 下载 | 暂无链接，等待应助者上传 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
MMMMM
MchemG
唐泽雪穗
不配.
gexzygg
Virtual
Luis
非而者厚
带头大哥
忧心的曼凝
YifanWang
AireenBeryl531
null
Billy
核桃
plum
GingerF
scm
yydragen
jyy
皖公网安备34019202002308
