| 标题 |
 Demonstration of Large MW and Prominent Endurance in a Hf0.5Zr0.5O2 FeFET with IGZO Channel Utilizing Postdeposition Annealing 利用沉积后退火在具有IGZO沟道的Hf0.5Zr 0.5 O2 FeFET中证明大MW和突出的耐久性
相关领域
退火（玻璃）
材料科学
光电子学
电气工程
砷化镓
硅
频道（广播）
工程物理
电子工程
工程类
冶金
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：IEEE Electron Device Letters 作者：Xu Pan; Pengfei Jiang; Yang Yang; Tiancheng Gong; Wei Wei; et al 出版日期：2024-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
OsamaKareem
GingerF
Richard
Nexus
无极微光
MchemG
eric888
互助
未来科研大牛
贪玩的秋柔
嘉心糖
XQQDD
YifanWang
Hayat
勤劳赛凤
Criminology34
干净的琦
俭朴子轩
vivideng
淡定小馒头
皖公网安备34019202002308
