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![]() 先进的18纳米Quad-RJ技术克服了扩展超过2X纳米的保留性和耐久性困境
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隧道磁电阻
缩放比例
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垂直的
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期刊:Symposium on VLSI Technology 作者:Hiroshi Naganuma; S. Miura; H. Honjo; K. Nishioka; Takahito Watanabe; et al 出版日期:2021-06-13 |
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