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 Suppressing Interfacial Layer Formation in ZrO2-Based Capacitors with TiN Electrodes via a MgO Thin-Film Oxygen Diffusion Barrier 通过MgO薄膜氧扩散阻挡层抑制TiN电极ZrO2基电容器中界面层的形成
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期刊：ACS applied electronic materials 作者：Seung‐Woo Lee; Hyun Joo Seol; Min Kyeong Nam; Dong Hee Han; Daeyeong Kim; et al 出版日期：2024-04-24 |
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