| 标题 |
 Poly(t-butyl-3α-(5-norbornene-2-carbonyloxy)-7α,12α-dihydroxy-5β-cholan-24-oate-co-maleic anhydride) for a 193-nm photoresist 用于193-nm光致抗蚀剂的聚(叔丁基-3 α-(5-降冰片烯-2-羰基氧基)-7 α，12 α-二羟基-5 β-胆烷-24-酸酯-共-马来酸酐)
相关领域
马来酸酐
光刻胶
高分子化学
降冰片烯
材料科学
双环戊二烯
复合材料
聚合
聚合物
共聚物
图层（电子）
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| 其它 |
期刊：Polymer 作者：Jin-Baek Kim; Bum-Wook Lee; Jae-Sung Kang; Dong-Chul Seo; Chi-Hyung Roh 出版日期：1999-12-01 |
| 求助人 | |
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