Integrations and challenges of novel high-k gate stacks in advanced CMOS technology

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标题	Integrations and challenges of novel high-k gate stacks in advanced CMOS technology
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.pmatsci.2011.01.012
DOI	10.1016/j.pmatsci.2011.01.012 doi
其它	期刊：Progress in Materials Science 作者：Gang He; Liqiang Zhu; Zhaoqi Sun; Qing Wan; Lide Zhang 出版日期：2011-07-01
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