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标题
Low donor ionization energy in Si-implanted heteroepitaxial AlN
硅注入异质外延AlN中的低施主电离能
相关领域
材料科学 X射线光电子能谱 杂质 电离 退火（玻璃） 离子注入 电离能 电导率 离子 分析化学（期刊） 核磁共振 冶金 物理化学 化学 物理 有机化学 色谱法
网址
https://doi.org/10.1016/j.mssp.2023.107455
DOI
10.1016/j.mssp.2023.107455 doi
其它 期刊：Materials Science in Semiconductor Processing
作者：Shengyuan Dong; Yanhui Xing; Chunhong Zeng; Tiwei Chen; Xuan Zhang; et al
出版日期：2023-03-14
求助人
keyantongaaa 在 2025-12-05 09:24:38 发布自吉林，悬赏 10 积分
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