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N-polar GaN/AlGaN/GaN metal–insulator–semiconductor high-electron-mobility transistor formed on sapphire substrate with minimal step bunching 相关领域
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期刊:Applied Physics Express 作者:Kiattiwut Prasertsuk; Tomoyuki Tanikawa; Takeshi Kimura; Shigeyuki Kuboya; Tetsuya Suemitsu; et al 出版日期:2017-12-27 |
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