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Electrical-stress driven oxidation in 940 nm oxide-confined VCSEL 940 nm氧化物限制VCSEL中的电应力驱动氧化
相关领域
氧化物
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期刊:Semiconductor Science and Technology 作者:Michael Pusterhofer; Robert Fabbro; Raffaele Coppeta; G. Fasching; P. Hadley 出版日期:2021-11-23 |
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