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[高分]
 Extreme Ultraviolet and Beyond Extreme Ultraviolet Lithography Using Amorphous Zeolitic Imidazolate Resists Deposited by Atomic/Molecular Layer Deposition 使用通过原子/分子层沉积沉积的无定形沸石咪唑酯抗蚀剂的极紫外和超极紫外光刻
相关领域
极紫外光刻
抵抗
极端紫外线
无定形固体
材料科学
X射线光电子能谱
分析化学（期刊）
原子层沉积
化学
薄膜
光电子学
光学
纳米技术
图层（电子）
化学工程
有机化学
激光器
物理
工程类
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10.26434/chemrxiv-2025-s1n4s
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