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标题
[高分] Extreme Ultraviolet and Beyond Extreme Ultraviolet Lithography Using Amorphous Zeolitic Imidazolate Resists Deposited by Atomic/Molecular Layer Deposition
使用通过原子/分子层沉积沉积的无定形沸石咪唑酯抗蚀剂的极紫外和超极紫外光刻
相关领域
极紫外光刻 抵抗 极端紫外线 无定形固体 材料科学 X射线光电子能谱 分析化学（期刊） 原子层沉积 化学 薄膜 光电子学 光学 纳米技术 图层（电子） 化学工程 有机化学 激光器 物理 工程类
网址
http://dx.doi.org/10.1021/acs.chemmater.5c01476
DOI
10.1021/acs.chemmater.5c01476 doi
提醒：求助人提供的doi与AI识别不一致 10.26434/chemrxiv-2025-s1n4s Doi
求助人
嘻嘻哈哈 在 2025-10-31 02:23:16 发布自湖北，悬赏 90 积分
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