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 Mechanism for growth initiation on aminosilane-functionalized SiO2 during area-selective atomic layer deposition of ZrO2 相关领域
原子层沉积
化学
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锆
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Wanxing Xu; Paul C. Lemaire; Kashish Sharma; Ryan J. Gasvoda; Dennis M. Hausmann; et al 出版日期：2021-03-08 |
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