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Sulfur passivation for the formation of Si-terminated Al2O3/SiGe(0 0 1) interfaces 相关领域
钝化
硫黄
X射线光电子能谱
成核
原子层沉积
材料科学
铝
沉积(地质)
化学工程
无机化学
氧化物
氧化铝
图层(电子)
化学
表面改性
氧气
分析化学(期刊)
硫化
氧化铝
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期刊:Applied Surface Science 作者:Kasra Sardashti; Kai-Ting Hu; Kechao Tang; Sang-Wook Park; Hyonwoong Kim; et al 出版日期:2016-01-16 |
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