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 An electron beam lithography tool with a Schottky emitter for wide range applications 一种具有Schottky发射极的电子束曝光工具，适用于广泛应用
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期刊：Microelectronic Engineering 作者：Bert Koek; T. Chisholm; Arnold J. van Run; J. Romijn; Julian P. Davey 出版日期：1994-01-01 |
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