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  Use of deposition pressure to control residual stress in polycrystalline SiC films 利用沉积压力控制多晶SiC薄膜中的残余应力
相关领域
材料科学
残余应力
极限抗拉强度
复合材料
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Xiao-An Fu; R. Jezeski; Christian A. Zorman; Mehran Mehregany 出版日期：2004-01-13 |
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