Selective chemical vapor deposition of HfB 2 on Al 2 O 3 over SiO 2 and the acceleration of nucleation on SiO 2 by pretreatment with Hf[N(CH 3 ) 2 ] 4

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标题	Selective chemical vapor deposition of HfB 2 on Al 2 O 3 over SiO 2 and the acceleration of nucleation on SiO 2 by pretreatment with Hf[N(CH 3 ) 2 ] 4 Hf[N(CH3)2]4预处理在Al2O3上选择性化学气相沉积HfB2及加速SiO2成核相关领域成核聚结（物理）饱和（图论）氧化物表面粗糙度化学气相沉积增长率金属表面光洁度分析化学（期刊）材料科学化学纳米技术冶金复合材料有机化学几何学物理数学组合数学天体生物学
网址	http://dx.doi.org/10.1116/6.0000691
DOI	10.1116/6.0000691 doi
求助人	陈杰在 2025-05-23 00:35:38 发布自四川，悬赏 10 积分
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