High-NA EUV lithography: current status and outlook for the future

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标题	High-NA EUV lithography: current status and outlook for the future 高NA EUV光刻技术的现状与展望相关领域极紫外光刻平版印刷术光学平坦度（宇宙学）光刻极端紫外线数值孔径图像拼接浸没式光刻薄脆饼下一代光刻抵抗材料科学制作计量学光电子学物理纳米技术电子束光刻激光器波长医学替代医学宇宙学图层（电子）量子力学病理
网址	https://doi.org/10.35848/1347-4065/ac49fa
DOI	10.35848/1347-4065/ac49fa doi
其它	期刊：Japanese journal of applied physics 作者：Harry Levinson 出版日期：2022-04-20
求助人	宇文天思在 2024-05-21 00:58:16 发布自北京，悬赏 10 积分
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