The effect of gas composition on the properties of silicon oxynitride thin film prepared by low-pressure inductively coupled Ar/N2 plasma

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标题	The effect of gas composition on the properties of silicon oxynitride thin film prepared by low-pressure inductively coupled Ar/N2 plasma
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2022.139629
DOI	10.1016/j.tsf.2022.139629 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Woojin Park; Jonggu Han; Jongsik Kim; Se Youn Moon 出版日期：2023-01-01
求助人	ale 在 2026-07-27 15:53:19 发布自浙江，悬赏 10 积分
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