Zernike polynomial-based pupil wavefront optimization technology for extreme ultraviolet lithography

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标题	Zernike polynomial-based pupil wavefront optimization technology for extreme ultraviolet lithography
网址	http://dx.doi.org/10.1117/12.3055164
DOI	10.1117/12.3055164 doi
其它	期刊：Eighth International Workshop on Advanced Patterning Solutions (IWAPS 2024) 作者：Miao Yuan; Zhaoxuan Li; Yang He; Zhen Li; Yuqing Chen; et al 出版日期：2024-12-10
求助人	jogger 在 2026-07-09 16:27:20 发布自浙江，悬赏 20 积分
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