Selective plasma-enhanced atomic layer etching of ZrO2 over TiN for DRAM capacitor recess etching

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标题	Selective plasma-enhanced atomic layer etching of ZrO2 over TiN for DRAM capacitor recess etching
网址	https://www.spiedigitallibrary.org/conference-proceedings-of...
DOI	10.1117/12.3090682 doi
其它	期刊：Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XV 作者：Hyeon O. Lee; H. Chae 出版日期：2026-04-09
求助人	翟不评在 2026-07-23 14:44:23 发布自新加坡，悬赏 20 积分
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