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 基于355 nm与527 nm激光退火的Ni/SiC欧姆接触制备（特邀） |
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| DOI |
10.3788/cjl251208
doi
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| 其它 |
期刊：Chinese Journal of Lasers 作者：李雅鑫 Li Yaxin; 徐明升 Xu Mingsheng; 李果 Li Guo; 李菲菲 Li Feifei; 葛磊 Ge Lei; et al 出版日期：2026-07-02 |
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