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标题
Progress in Polycrystalline SiC Growth by Low Pressure Chemical Vapor Deposition and Material Characterization
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DOI
10.3390/mi16030276 doi
其它 期刊:Micromachines
作者:Michail Gavalas; Yann Gallou; Didier Chaussende; E. Blanquet; F. Mercier; et al
出版日期:2025-02-27
求助人
任风 在 2026-08-04 11:31:36 发布自山东,悬赏 10 积分
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