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 Stress-Temperature Behavior of O3-TEOS Sub-Atmospheric CVD (SACVD) Oxide Films Deposited on Various Oxide Underlayers 不同氧化物底层上O3-TEOS亚大气压CVD（SACVD）氧化膜的应力-温度行为
相关领域
材料科学
等离子体增强化学气相沉积
磁滞
氧化物
硅烷
化学工程
压力（语言学）
薄膜
复合材料
分析化学（期刊）
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物理
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期刊：MRS Proceedings 作者：Stuardo A. Robles; Ellie Yieh; M. Galiano; Kurt kwok; B. C. Nguyen 出版日期：1993-01-01 |
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