| 标题 |
Fundamentals of developer-resist interactions for line-edge roughness and critical dimension control in model 248-nm and 157-nm photoresists |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:SPIE Proceedings 作者:Vivek M. Prabhu; Michael X. Wang; Erin L. Jablonski; Bryan D. Vogt; Eric K. Lin; et al 出版日期:2004-06-17 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)