| 标题 |
Spin-coatable Al 2 O 3 resists in electron-beam nanolithography |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Advances in Resist Technology and Processing XVI 作者:Will Conley; Mohammad S. Saifullah; Hideo Namatsu; Toru Yamaguchi; Kenji Yamazaki; Kenji Kurihara 出版日期:1999 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)