Study on the nano-cutting mechanism of ion-implanted amorphous layers in single-crystal silicon with insufficient amorphization effects

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标题	Study on the nano-cutting mechanism of ion-implanted amorphous layers in single-crystal silicon with insufficient amorphization effects
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S136980012...
DOI	10.1016/j.mssp.2025.110143 doi
其它	期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Guilian Wang; Chaoyang Wang; Donghao Liu; Zhi-Guo Wang; Hang Zhang 出版日期：2026-01-01
求助人	璐瑶在 2026-10-09 17:02:45 发布自天津，悬赏 10 积分
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