| 标题 |
 High-NA in-line projector for EUV lithography |
| 网址 | |
| DOI |
10.1117/12.3118526
doi
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| 其它 |
期刊：Photomask Japan 2026: XXXII Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology 作者：Tsumoru Shintake 出版日期：2026-09-24 |
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(2025-6-4)
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