| 标题 |
Plasma fluorination of carbon-based materials for imprint and molding lithographic applications |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Applied Physics Letters 作者:M. Schvartzman; Anurag Mathur; James Hone; C. Jahnes; S. J. Wind 出版日期:2008-10-13 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人或该文件上传人下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)