| 标题 |
 Co-optimization of optical and resist models in the OPC modeling process using in-house genetic algorithm 基于内部遗传算法的OPC建模过程中光学模型和抗蚀剂模型的协同优化
相关领域
抵抗
遗传算法
光学接近校正
过程（计算）
计算机科学
光学（聚焦）
自动化
算法
数据建模
多目标优化
平版印刷术
航空影像
帕累托最优
航程（航空）
数学优化
图像（数学）
人工智能
机器学习
工程类
数学
数据库
化学
光学
操作系统
图层（电子）
机械工程
物理
有机化学
艺术
航空航天工程
视觉艺术
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊： 作者：Yinuo Pan; Yingfang Wang; Norman Chen; Keeho Kim; Éric Parent 出版日期：2023-04-28 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
科研助手6
cdercder
昏睡的蟠桃
发财暴富财富自由没我快吧嘻嘻嘻
bc
SYLH
iNk
lin
科研小民工
平常的毛豆
淡然的熊猫
椰子在长江送礼物
甜甜玫瑰
back you up
ZhouYW
VDC
HEIKU
kingwill
nozero
pluto
皖公网安备34019202002308
