| 标题 |
 Surface etching, chemical modification and characterization of silicon nitride and silicon oxide—selective functionalization of Si3N4and SiO2 氮化硅和氧化硅的表面刻蚀、化学改性及表征——Si3N4和SiO2的选择性功能化
相关领域
X射线光电子能谱
氮化硅
表面改性
硅
氧化物
二氧化硅
氮化物
材料科学
蚀刻（微加工）
化学状态
各向同性腐蚀
缓冲氧化物腐蚀
氧化硅
反应性（心理学）
化学工程
无机化学
分析化学（期刊）
反应离子刻蚀
化学
图层（电子）
纳米技术
有机化学
光电子学
复合材料
冶金
医学
替代医学
病理
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Physics: Condensed Matter 作者：Li Hong Liu; David J. Michalak; Tatiana Peixoto Chopra; Sidharam P. Pujari; Wilfredo Cabrera; et al 出版日期：2016-02-12 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
浮游
yznfly
你嵙这个期刊没买
无极微光
freyaaaaa
ceeray23
chenqiumu
Zx_1993
Mic
玄风
pluto
寻道图强
风中冰香
Momomo
qingmoheng
YifanWang
浮浮世世
GingerF
Huzhu
小青椒
BareBear
我想毕业
邓佳鑫Alan
yyds
皖公网安备34019202002308
