| 标题 |
Advances in full-chip three-dimensional resist modeling for low k1 EUV and DUV lithography |
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| DOI |
10.1117/12.3013125
doi
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期刊: 作者:Betsy Grubbs; Bernd Kuechler; Hyesook Hong; Enas Sakr; Lena Zavyalova; et al 出版日期:2024-04-09 |
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(2025-6-4)