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Obtaining a Low and Wide Atomic Layer Deposition Window (150–275 °C) for In2O3 Films Using an InIII Amidinate and H2O |
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期刊:Chemistry – A European Journal 作者:Sang Bok Kim; Ashwin Jayaraman; Danny Chua; Luke M. Davis; Shao‐Liang Zheng; et al 出版日期:2018-06-05 |
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