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 Organometallic and coordinative photoresist materials for EUV lithography and related photolytic mechanisms 用于EUV光刻的有机金属和配位光刻胶材料及其光解机理
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期刊：Coordination Chemistry Reviews 作者：Gayoung Lim; Kangsik Lee; Suin Choi; Hyo Jae Yoon 出版日期：2023-10-01 |
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