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[求助补充材料]
 Enhancing performance of Ti-Zn-oxo clusters for advanced lithography: effect of vertical ionization potential on sensitivity 用于先进光刻的Ti-Zn-oxo团簇增强性能：垂直电离势对灵敏度的影响
相关领域
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期刊：Science China-chemistry 作者：Daohan Wang; Xiao‐Feng Gong; Runfeng Xu; Min Zhang; Danhong Zhou; et al 出版日期：2025-04-28 |
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