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 Highly Selective Si vs. SiGe and SiGe vs. Ge Wet Etch for Sub 2nm Applications 用于亚2nm应用的高选择性Si与SiGe和SiGe与Ge湿法蚀刻
相关领域
材料科学
光电子学
硅锗
锗
基质（水族馆）
硅
纳米技术
地质学
海洋学
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期刊： 作者：Chien-Pin Sherman Hsu 出版日期：2024-05-13 |
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