| 标题 |
[求助补充材料]
 Three-Dimensional Elemental Analysis of Commercial 45 nm Node Device with High-$k$/Metal Gate Stack by Atom Probe Tomography 用原子探针层析成像对具有高$k$/金属栅极堆叠的商用45 nm节点器件进行三维元素分析
相关领域
原子探针
堆栈（抽象数据类型）
材料科学
金属
金属浇口
图层（电子）
元素分析
纳米尺度
光电子学
节点（物理）
Atom（片上系统）
高分辨率
高-κ电介质
原子单位
电介质
分析化学（期刊）
纳米技术
栅氧化层
化学
无机化学
冶金
计算机科学
电气工程
物理
电压
程序设计语言
色谱法
晶体管
遥感
嵌入式系统
透射电子显微镜
工程类
地质学
量子力学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Applied Physics Express 作者：Koji Inoue; Hisashi Takamizawa; Katsuyuki Kitamoto; Jun Kato; Takahiro Miyagi; et al 出版日期：2011-10-20 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Copyright
无极微光
yjh123
烂漫的碧玉
cdercder
Kao
烟消云散
潇洒的惋清
Criminology34
疯狂加载ing
Avalonx
OK
乐空思
pluto
GingerF
初景
arniu2008
学术文献互助
小米
lg大泡
皖公网安备34019202002308
