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标题
Stoichiometry ratio-induced structural and electronic properties changes of TaN thin films prepared by reactive magnetron sputtering
相关领域
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网址
https://doi.org/10.1016/j.mssp.2023.107979
DOI
10.1016/j.mssp.2023.107979 doi
其它 期刊：Materials Science in Semiconductor Processing
作者：Bo Yang; Tao Huang; Yingying Dou; Wenwen Kong
出版日期：2023-11-18
求助人
Ada 在 2026-01-07 10:18:32 发布自重庆，悬赏 10 积分
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