| 标题 |
 Interfacial Dislocation Engineering in Copper-Graphene Composites: Atomic Insights into Enhanced Radiation Resistance 相关领域
材料科学
位错
复合材料
抗辐射性
辐照
辐射耐受性
辐射损伤
辐射
光电子学
辐射硬化
冶金
原子力显微镜
中子辐照
γ辐射
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Nuclear Materials 作者：Qi Zhang; Z. J. Yan; Zhe Yan; Boan Zhong; Mingyu Gong; et al 出版日期：2025-12-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
浮游
无极微光
asdfzxcv
Criminology34
BowieHuang
专注的问寒
smottom
BareBear
香蕉诗蕊
lsl
LaTeXer
Twonej
xu
快乐滑板
三岁
Tourist
eric888
tuanheqi
殷勤的紫槐
清飏
彭于彦祖
ZeKaWang
ccm
轨迹
皖公网安备34019202002308
