Characterization of Sidewall Residue Film and Atomic Structure of the Trench Formed by BCI3/CI2 Reactive Ion Etching

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标题	Characterization of Sidewall Residue Film and Atomic Structure of the Trench Formed by BCI3/CI2 Reactive Ion Etching
网址	https://doi.org/10.1557/PROC-158-431
DOI	10.1557/PROC-158-431 doi
其它	期刊：MRS Proceedings 作者：Sun Jin Yun; Young-Jin Jeon; Jeong Y. Lee 出版日期：2011
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