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Selective isotropic etching of SiO2 over Si3N4 using NF3/H2 remote plasma and methanol vapor |
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期刊:Scientific Reports 作者:Hong Seong Gil; Doo San Kim; Yun Jong Jang; Dea Whan Kim; Hea In Kwon; et al 出版日期:2023 |
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(2025-6-4)