Scalable growth of atomically thin MoS2 layers in a conventional MOCVD system using molybdenum dichloride dioxide as the molybdenum source

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标题	Scalable growth of atomically thin MoS2 layers in a conventional MOCVD system using molybdenum dichloride dioxide as the molybdenum source
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2023.157756
DOI	10.1016/j.apsusc.2023.157756 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Xu Yang; Shisheng Li; Naoki Ikeda; Akihiro Ohtake; Yoshiki Sakuma 出版日期：2023-06-15
求助人	DFT的姐在 2026-10-27 15:49:17 发布自北京，悬赏 10 积分
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