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 Gas‐Phase and Surface Reaction Mechanisms in MOCVD of GaAs with Trimethyl‐Gallium and Arsine 相关领域
砷化氢
三甲基镓
金属有机气相外延
化学
化学气相沉积
反应机理
等温过程
镓
化学反应
碳纤维
吸附
基本反应
相（物质）
分解
基质（水族馆）
反应速率
化学物理
物理化学
外延
动力学
材料科学
热力学
有机化学
催化作用
海洋学
复合数
复合材料
量子力学
物理
磷化氢
图层（电子）
地质学
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期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：T. J. Mountziaris; Klavs F. Jensen 出版日期：1991-08-01 |
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