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Low temperature Topographically Selective Deposition by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition with ion bombardment assistance
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网址
https://doi.org/10.1116/6.0000649
AI链接 univ-grenoble-alpes.fr univ-grenoble-alpes.fr univ-grenoble-alpes.frdoi.org
DOI
10.1116/6.0000649 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者：Taguhi Yeghoyan; V. Pesce; Moustapha Jaffal; Gauthier Lefèvre; R. Gassilloud; et al
出版日期：2021-05-01
求助人
大安吉 在 2025-10-28 10:23:45 发布自海南，悬赏 10 积分
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